申請（專利）號：CN90107038.6申請日：1990.08.15
公開（公告）號：CN1059039公開（公告）日：1992.02.26
主分類號：G03F7/20范疇分類：30B
分類號：G03F7/20
優(yōu)先權(quán)：
申請（專利權(quán)）人：中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械研究所
地址：130022吉林省長春市斯大林大街112號
國省代碼：吉林；22
發(fā)明（設(shè)計）人：仲躋功
國際申請：
國際公布：
進入國家日期：
專利代理機構(gòu)：中國科學(xué)院長春專利事務(wù)所
代理人：顧業(yè)華
分案申請?zhí)枺?br /> 頒證日：





摘要：
本發(fā)明涉及一種接觸/接近式大面積紫外均勻輻照光刻(曝光)的方法及其裝置，采用了可將輻照面內(nèi)輻照不均勻度與曝光過程中產(chǎn)生的曝光不均勻度互相補償?shù)呐紨?shù)光通道光學(xué)積分器、復(fù)合式高次非球面的聚光鏡和可移動式曝光方式，使得在增大有效輻照面積的同時提高了曝光均勻度，為液晶顯示器，特別是液晶電視技術(shù)中的關(guān)鍵器件有源矩陣液晶顯示器的研制提供了有效手段，它還適用于大規(guī)模集成電路和精密印刷電路板的制作及太陽紫外輻照模擬實驗等方面。
主權(quán)項：
大面積紫外光刻(曝光)方法，其特征在于在曝光基片的整個范圍內(nèi)，使輻照不均勻度和曝光不均勻度成反向變化，實現(xiàn)二者的補償，即采用偶數(shù)個光通道的光學(xué)積分器，其數(shù)目應(yīng)與聚光鏡形成的輻照分布相匹配，并且各并列光通道元素透鏡口徑不論為何種形狀，其組合通光口徑的形狀，應(yīng)與聚光鏡形成的輻照分布的形狀相同或類似。http://m.zhdtlyjq.com